廣州廣鋼氣體能源股份有限公司

廣州廣鋼氣體能源股份有限公司(688548.SH)成立於2014年，主要從事研發、生產和銷售以電子大宗氣體為核心的工業氣體公司，為客戶提供現場製氣、零售供氣等綜合服務，產品包括電子級超高純氮氣（N2）、氦氣（He）、氧氣（O2）、氫氣（H2）、氬氣（Ar）、二氧化碳（CO2）等氣體，廣泛應用於積體電路製造、半導體顯示、光纖通信等電子半導體領域以及能源化工、有色金屬、機械製造等通用工業領域。其中，氮氣作為保護氣和環境氣，為使用最廣、用量最大的電子大宗氣體。公司是國務院“科改示範企業”及廣州市國資委重點混合所有制改革項目企業，系廣州工業投資控股集團有限公司子公司。
 
氦氣是電子半導體產業不可或缺的關鍵材料。全球的氦氣資源幾乎完全被美國、卡達等少數國家擁有，外資氣體公司通過對氦氣資源和供應鏈技術的壟斷，掌握了全球的氦氣供應。
 
電子大宗氣體：
 
★氦氣：是電子半導體領域使用最廣、用量最大的氣體，用於營造半導體生產過程中的超淨氣體環境，作為環境氣、保護氣、清潔氣和運載氣等用途運用於電子半導體生產製造中的所有環節。
 
★氦氣：因其更優的化學穩定性和導熱性、更低的分子量和液化溫度，廣泛應用在積體電路製造、半導體顯示、低溫超導、光纖通信、科研實驗等領域。在積體電路製造中，氦氣在先進制程中的用量更大，被用於運載氣、化學氣相沉積制程用氣、蝕刻機制程用氣、洩露測試等用途。
 
★氧氣：可用於積體電路製造、半導體顯示蝕刻環節的氧化氣體，以及幹法去膠、陣列濺鍍機、尾氣處理等。
 
★氫氣：可用於化學氣相沉積環節和光刻環節。其中光刻環節，氫氣主要用於與化學品錫反應，避免錫積聚在昂貴的光學器件上；化學氣相沉積環節，氫氣主要用於矽和矽鍺的外延沉積和表面處理。
 
★氬氣：主要用於積體電路製造中的深紫外光刻雷射器的沉積和蝕刻環節，以及清洗晶片結構中的碎屑；在半導體材料矽、鍺的精煉和單晶的製備過程中，氬氣被用作保護氣來保護在矽片上形成的矽晶體。
 
★二氧化碳：主要用於積體電路製造浸沒光刻環節，也可用於低溫清洗應用以及去離子水處理。
 
電子大宗氣體特點：
 
電子氣體是電子專用材料製造的重點產品，分為電子大宗氣體和電子特種氣體。電子大宗氣體與電子特種氣體在氣體品種及用量、應用環節、供應模式、合作期限、純度要求等方面存在本質不同。
 
通用工業氣體：
 
★氮氣：可用於金屬冶煉、機械製造、化工能源、食品醫藥及消費等領域的惰性保護介質、化合物合成、製冷劑等。
 
★氦氣：可用於金屬冶煉、機械製造領域的保護氣、填充氣、淬火氣體。
 
★氧氣：可用於金屬冶煉、化工能源等領域的助燃劑、氧化反應等，以及醫療、潛水等領域的呼吸供給。
 
★氬氣：可用於金屬冶煉和有色金屬焊接保護氣、光電管和中空玻璃等填充氣、醫療高頻氬氣刀等。
 
★氫氣：可用於金屬冶煉、機械製造、化工能源、食品加工等領域的還原氣、保護氣、燃料、氫化反應原料氣等。
 
★二氧化碳：可用於食品保鮮、飲料碳化品、合成化工、低溫運輸、滅火劑，冷卻劑等。
 
通用工業氣體特點：
 
在歐美國家等成熟市場，通用工業氣體行業以專業氣體公司運營為主，佔有超過 80%的市場份額，而在大陸目前仍以大型鋼鐵、冶金及化工企業自行投資並運營大宗氣站為主，外包專業氣體公司運營為輔。