高溫多晶矽面板為多晶矽TFT LCD的製程技術之一。在多晶矽製程發展初期,為要將玻璃基板之非晶矽結構轉變成多晶矽結構,必須以攝氏1000度以上的高溫氧化技術,才能將非晶矽結構特性轉化為多晶矽結構。由於普通玻璃無法如此高溫處理,唯有石英玻璃方能如此處理,但其價格昂貴且尺寸皆較小,故於多晶矽製程發展初期,廠商基於成本考量,多走非晶矽路線。