安集微電子科技(上海)股份有限公司

安集科技(688019.SH)成立於2006年2月，主營業務為關鍵半導體材料的研發，產品包括化學機械拋光液和光刻膠去除劑，主要應用於積體電路製造和先進封裝領域，光刻膠去除劑產品除應用於積體電路領域外還應用於LED/OLED領域。

 

產品項目：

 

(1)化學機械拋光液：公司化學機械拋光液包括銅及銅阻擋層系列、其他系列等系列產品，銅及銅阻擋層系列化學機械拋光液是公司最主要的收入來源，用於拋光銅及銅阻擋層以分離銅和相鄰的絕緣材料，主要應用於製造先進的邏輯晶片和先進的存儲晶片；公司銅及銅阻擋層系列化學機械拋光液技術節點涵蓋130-28nm晶片制程。其他系列化學機械拋光液包括鎢拋光液、矽拋光液、氧化物拋光液等產品，鎢拋光液大量應用於存儲晶片製造工藝，在邏輯晶片中僅用於部分製程；矽拋光液主要應用於矽晶圓的初步加工過程中，矽晶圓是積體電路的基底材料，已供應國內外多家晶片製造商。

 

 

圖片來源，公司招股書

 

(2)光阻劑去除劑

 

光阻劑下游應用領域不同，光阻劑去除劑細分為積體電路製造用、晶圓級封裝用、LED/OLED用等系列產品。光阻劑去除劑是用於圖形化工藝光阻劑殘留物去除的高端濕化學品。光阻劑去除劑一般由去除劑、溶劑、螯合劑、緩蝕劑等組成，其中關鍵是去除劑和溶劑的選擇，從而獲得優異的交聯光刻膠聚合物的去除；螯合劑及緩蝕劑等添加劑提供金屬及非金屬基材分子級、原子級保護，並進行光阻劑殘留物選擇性去除。公司光阻劑去除劑的核心技術包括光阻清洗中金屬防腐蝕技術、光阻劑殘留物去除技術。

 

公司主要客戶包括中芯國際、台積電、長江存儲、華潤微電子、華虹宏力均為全球或國內領先的積體電路製造廠商。

 

公司化學機械拋光液已在130-28nm技術實現規模化銷售，主要應用於國內8吋和128吋主流晶圓產線；14nm技術產品已進入客戶認證階段，10-7nm技術產品正在研發中。