(一)公司簡介
1.沿革與背景
兆捷科技國際股份有限公司設立於2016年，主要從事半導體、平面顯示器製程中所需的特殊氣體製造與銷售，為目前台灣唯一擁有電子植入、清潔蝕刻、雷射、沉積薄膜等四大類氣體原料的電子化學特殊氣體供應商。
2.營業項目與產品結構
2023年產品營收結構佔比：特殊氣體85%、其他15%。
(二)產品與競爭條件
1.產品與技術簡介
公司之特殊氣體產品共分為電子植入氣體(Dopant Gas)、電子清潔蝕刻氣體(Clean and Etchant Gas)、電子沉積氣體(CVD Thin-Film Gas)及電子雷射氣體(Laser Litho Gas)等四大類產品，其各項特殊氣體產品之用途如下：
● 電子植入氣體（Dopant Gas）
在半導體擴散製造(Dopant)中作為半導體離子佈植(implantation process)及摻雜(after implantation)用特殊氣體，主要產品包括砷烷(氫化砷) Arsine (AsH3)、磷烷(磷化氫) Phosphine (PH3)、三氟化硼(11B) 11B Enriched Boron Trifluoride (11BF3)及四氟化鍺 Germanium Tetrafluoride (GeF4)等。
● 電子清潔蝕刻氣體（Clean and Etchant Gas）
主要以提供三氟化氮 Nitrogen Trifluoride (NF3)及氟氣、氮氣混合氣體 (F2/N2 Mixture Gas)為主，NF3 在半導體與液晶面板生產製造領域中是重要的清潔氣體，用於清潔機台內部製程後表面產生的矽化物，而 F2/N2 Mixture Gas 則廣泛應用於電子、雷射技術、醫藥器材等領域。
● 電子沉積氣體（CVD Thin-Film Gas）
產品主要以提供矽甲烷 Silane (SiH4)、矽乙烷 Disilane (Si2H6)、二氯矽烷(DCS) Dichlorosilane (DCS)及三氯矽烷(TCS) Trichlorosilane (TCS)為主。其產品運用主要在半導體積體電路沉積(薄膜製程)，用來以薄膜沉積提純矽，主要應用產業包括 DRAM、晶圓代工、面板及太陽能等產業。
● 電子雷射氣體（Laser Litho Gas）
以提供氬化氪(ArF)193nm、氟化氪(KrF)248nm、Laser Annealing Gas雷射退火氣體、氖氣 Neon(Ne)及氪氣 Krypton (Kr)等產品。
其主要產品是光阻製程中使用，給予EUV產生準分子雷射，運用於半導體DUV(深紫外光微影)黃光製程及低溫多晶矽（LTPS）之生產過程。
2.重要原物料
主要原料為氣體及化學品等。
3.主要生產據點
生產基地位於新竹縣湖口鄉。另外，位在苗栗銅鑼科學園區的新廠，計劃於2023年取得使用執照，第四季產生生產效益。
(三)
市場銷售及競爭
1.銷售狀況
2023年產品銷售地區佔比為台灣84%、中國大陸15%。
全球3家植入氣體及2家雷射氣體生產商之公司，目前植入氣體全球市佔率最高者為Entegris；另外雷射氣體全球市佔率最高者為Linde Spectrum EM。
2.國內外競爭廠商
全球競爭對手如下表所示：
資料來源：公開說明書
