ASML Holding
ASML
成立日期：1984年
上市日期：1995年
經營項目/產品：
該公司是荷蘭半導體設備製造商，專門提供半導體商生產過程中，所需軟硬體設備，及相關服務。
該公司主要產品為旗下微影技術儀器，如EUV極紫外光微影系統、DUV深紫外光微影系統等系列產品，以及矽晶圓檢測、量測技術方案等服務。
其中，儀器產品販售額佔總營收73%，服務業務則佔26%。
Extreme Ultraviolet(EUV)佔產品營收33%，為佔比最重項目，其次為Argon Fluoride Immersion(ArFi)光刻機佔32%，Service and Field Option佔20%，Krypton Fluoride(KrF)佔8%，Argon Fluoride Dry佔3%。
總公司位置及全球據點：
該公司總部位於荷蘭費爾德霍芬。
在歐美亞地區擁有八個生產基地，同時於美國、中國、日本，以及韓國等地設有辦公室，在台灣，該公司則於新竹、台中，及台南等地設有辦公室。
競爭情況：
該公司競爭對象為其他大牌半導體設備廠商，如Canon、Nikon、應用材料、科林研發，以及科磊等公司集團。
產業地位，銷售概況：
該公司是全球極紫外光(EUV)光刻技術的領導者，主要透過其子公司經營，營運子公司分別在荷蘭、美國、義大利、法國、德國、英國、愛爾蘭、比利時、韓國、台灣、新加坡、中國、香港、日本、馬來西亞和以色列。銷售方面，台灣佔總營收29%，中國佔26%，韓國佔25%、美國佔11%。
上游供應鏈或原物料的供應情況及廠商：
該公司依靠合作製造商，購入生產過程所需的原物料、設備，及工具，再製成旗下產品。這些合作廠商包含Zeiss蔡司、Trumpf，及Aalberts公司等設備製造廠商。
產品銷售的主要客戶及管道：
該公司客戶群來自半導體製造商，如台積電、Intel、三星、美光科技，以及SK海力士等公司集團。
該公司透過自家行銷團隊，直接販售產品至客戶。
研發及投資的方向：
該公司積極投資、研發光刻設備技術，以便即時推出新型儀器供應市場需求，維持優勢地位。
2022年1月，宣布與Intel加強合作關係，Intel將購入該公司TWINSCAN EXE:5200系統儀器，預期於2025年，共同應用高數值孔徑(High-NA) EUV技術，生產半導體。
2023年，該公司完成了EO Technical Solutions, LLC零件維修公司的收購。
