MoneyDJ新聞 2025-05-28 08:53:53 記者 郭妍希 報導
台積電(2330)高層透露，仍在評估未來製程是否要使用荷蘭半導體設備業龍頭艾司摩爾(ASML Holding N.V.)的尖端High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光)微影設備。
路透社27日報導，這款尖端機台要價將近4億美元、幾乎是晶圓廠當前最昂貴設備的兩倍，晶片製造商目前還在評估，其曝光速度與解析度的提升，是否真的值這個價。
被問到公司是否計畫在即將推出的A14製程使用上述機台時，業務開發資深副總裁張曉強(Kevin Zhang)在記者會表示，台積電還沒看到非用不可的理由。
張曉強說，「A14就算不用High-NA，效能也已相當強大。因此我們的技術團隊會繼續開發微縮(scaling)效益，設法延展Low-NA EUV (低數值孔徑極紫外光)微影設備的壽命。」「只要團隊能繼續找到解方，我們顯然沒有使用High-NA的必要。」
相較之下，台積電對手英特爾(Intel Corp.)已計畫在未來製程「14A」使用High-NA EUV機台，試圖藉此振興晶圓代工事業、提升對台積電的競爭力。不過，英特爾也表示，客戶依舊可選擇使用舊款且獲得實證的技術。
張曉強去(2024)年就曾表示，A16不一定需用到的ASML的High-NA EUV機台。他說，這要看公司能取得的最佳經濟與技術平衡而定，A16廠或許會採用、但不確定。「我喜歡這項技術、但不喜歡高昂的價格。」
(圖片來源：shutterstock)
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