鎧鉅：鉅鉦精測已申請垂直式探針卡對焦系統之新型專利

公開資訊觀測站重大訊息公告

(1585)鎧鉅-鉅鉦精測申請「垂直式探針卡對焦系統」新型專利可解決原懸臂式探針卡設備，更換使用垂直式線針探針卡時，之對位問題。(代子公司公告)

1.事實發生日:114/04/11
2.公司名稱:鉅鉦精測股份有限公司
3.與公司關係(請輸入本公司或子公司):子公司
4.相互持股比例:本公司持股鉅鉦精測60.49%
5.發生緣由:
本公司之子公司鉅鉦精測 於民國114年4月已申請台灣新型專利「垂直式探針卡對焦系統」(申請案號為114203324號)，該技術針對當前晶圓測試中，因探針先端過於微小導致CCD對焦困難問題，提供創新解決方案，有效解決使用垂直式線針探針卡時，之針尖對位問題，進而達到精度與良率提升。
隨著半導體製程邁向微米以下精度，測試探針針尖尺寸小於10微米時，已難以被CCD正確辨識，進而影響測試準確性。鉅鉦精測研發團隊開發的新型對焦系統，整合多根「測試探針」與「對焦探針」，並透過將對焦探針作為CCD影像對位裝置的精準輔助標記，有效克服因極細針尖難以被偵測而產生的定位誤差對焦難題，更具備高度的前瞻性，能充分應對未來更精密的晶圓製程需求。預期此系統的導入將有效解決使用垂直式線針探針卡時，之針尖對位問題，進一步提升整體晶圓測試生產良率與降低探針卡之維護成本。
鉅鉦精測持續深耕技術創新，此次「垂直式探針卡對焦系統」新型專利的申請，不僅彰顯公司在半導體測試領域的卓越研發實力，更為產業夥伴提供更具競爭力的先進測試解決方案。
6.因應措施:於公開資訊觀測站發佈重訊。
7.其他應敘明事項(若事件發生或決議之主體係屬公開發行以上公司，本則重大訊息同時符合證券交易法施行細則第7條第9款所定對股東權益或證券價格有重大影響之事項):無。