結論
Electronic Trend
Publication報告預估全球微波元件市場到2004年市場規模將達51.8億美元,較2000年成長2.4倍,砷化鎵磊晶片更以每年32%以上的速度快速成長,其中HBT晶片由於應用在手機的PA上,目前已是供不應求,在各方資金投入之後,未來成長性更是驚人。以目前台灣發展砷化鎵產業,仍是以上游磊晶製造最具成長潛力,台灣若要在手機代工佔有一席之地,砷化鎵產業的茁壯必是關鍵因素之一。
一、什麼是砷化鎵?
1.砷化鎵是三五族化合物
砷化鎵屬於化合物半導體,一般二元化合物半導體大約有二十種,包括四四族、三五族、二六族和六四族幾種組合,其中二六族化合物半導體原用為紅外線軍事科技,冷戰結束後才開放,三五族則是應用於衛星、通訊等軍事用途,也是在十年前冷戰結束後才陸續開放給民間作為商業用途。
表一、週期表中與半導體相關元素
週期 |
Ⅱ |
Ⅲ |
Ⅳ |
Ⅴ |
Ⅵ |
2 |
|
|
碳C |
氮N |
|
3 |
|
鋁Al |
矽Si |
磷P |
硫S |
4 |
鋅Zn |
鎵Ga |
鍺Ge |
砷As |
硒Se |
5 |
鎘Cd |
銦In |
|
|
銻Te |
2.與矽的比較
砷化鎵雖然具備高頻特性,但是因為材料成本及量產良率都比不上矽,因此仍有部份廠商積極研發不同製程的矽元件希望取代砷化鎵,其中IBM所研發的矽鍺(SiGe)技術最為可能,但是其崩潰電壓過低造成容易當機以及在量產方面仍有問題待克服。
表二、砷化鎵(GaAs)與矽(Silicon)元件特性比較
|
砷化鎵 |
矽 |
最大頻率範圍 |
2-300GHz,極具遠程通訊需求 |
1GHz以下 |
最大操作溫度 |
攝氏200度 |
攝氏120度 |
電子遷移率 |
高 |
低 |
抗輻射性 |
高 |
低 |
具光能 |
是 |
否 |
高頻下使用 |
雜訊少 |
雜訊多,不易克服 |
功率耗損 |
小 |
高 |
元件大小 |
小 |
大 |
元件績效(線性、效率、功率密度) |
高 |
低 |
元件整合性 |
低 |
高 |
主流wafer尺寸 |
4吋轉6吋,困難度高 |
8吋,但至明年將有12吋廠量產 |
整體而言,砷化鎵較矽元件除了電子遷移速度高,在高頻使用的雜訊低,元件SIZE小,適合用於通訊之外,另外也具備抗輻射性,不易產生信號錯誤情況,故產品穩定度高,特別適用於衛星通訊時暴露於太空中所產生的輻射問題。另外GaAs的操作溫度範圍最高可達攝氏200度,
不易因高頻所產生熱能而影響產品更能與穩定性。而砷化鎵元件另一個優點在於具備光能,因此可應用在汽車方面,可用GaAs磊晶生產高亮度LED做為汽車剎車燈。
3.砷化鎵元件及製程
- 製程:GaAs屬化合物半導體,在化物半導體元件製作上,主要的磊晶長成方式由三種:液相磊晶(LPE)、分子束磊晶(MBE)、有機金屬氣相磊晶(MOCVD)。
- LPE屬傳統且較簡單的方式,一般應用於發光二極體(LED)的長成上,但對於需要精準參雜濃度甚或較薄磊晶的長成上,LPE則較難掌控。
- MBE為目前磊晶長成的主流技術,因對參雜濃度能精準掌控,也較能長成極薄的結構,磊晶的平整度較佳。
- MOCVD則是未來主流技術,月產量為MBE的1.5倍,較具量產能力,部份台灣LED磊晶公司藉此切入手機用HBT磊晶。
表三、化合物半導體磊晶生成法比較
|
液相磊晶LPE |
氣相磊晶VPE |
分子束磊晶MBE |
有機金屬氣相磊晶MOCVD |
技術層次 |
低 |
中 |
中高 |
高 |
量產能力 |
高 |
中高 |
低 |
中 |
磊晶成長速度 |
高 |
中 |
中、低 |
中 |
成長極薄磊晶 |
難 |
不容易 |
容易 |
容易 |
磊晶純度 |
高 |
高 |
高 |
高 |
磊晶平整度 |
差 |
中 |
好 |
好 |
- 元件:用GaAs生產的微波元件結構主要有三種:MESEFT(金屬半導體場效電晶體)、PHEMT(假型高速電子移動電晶體)、HBT(異質接面雙極電晶體)。
- HBT:HBT算是GaAs領域較新的技術,本質上屬於用GaAs材料製成的雙載子電晶體,HBT的三極(射極、基極、集極)的排列方式呈垂直排列,通道內的電子流呈垂直方向,也因為其結構上的優勢,造成甚高的功率密度。換言之在同樣的輸出功率下,HBT的die
size可以較小,再加上僅需單一電壓來源即可運作(PHEMT、MESEFT都需加上第二個電壓來源),HBT的線性效果佳及功率效益(power
efficiency)好的特性,正適合日前講求輕薄短小、待機時間長的行動電話,因此採用HBT製成的行動電話功率放大器(PA)正積極搶占市場。
- PHEM:儘管在手機PA的應用上,PHEMT的競爭力較HBT遜色,但PHEMT卻有低雜訊的特點,因此在20GHz以上的高頻微波通訊上,PHEMT仍有一定的市場地位。
- MESEFT:至於MESEFT結構最簡單,成本最低,但是因為只能適用於中低頻,加上必須要雙電源設計,已經逐漸退出市場,Compound
Semiconductor預估MESEFT的市佔率將從1999年的40%降到2004年的10%。
目前市場上多用MOCVD技術生產HBT(但也有例外,如RFMD也有部份用MBE作HBT,Kopin則用MOCVD),而MBE則用在MESEFT及PHEMT上,因此也無所謂MBE與MOCVD技術上的差異,反倒是應用上的不同。
4.砷化鎵的應用
砷化鎵的應用早年主要在於國防太空工業的需求,主要技術掌握在軍方手上,隨冷戰結束及個人通訊的發展迅速,HBT被大量應用在CDMA手機上,主要是之前的Si-BJT(雙極接面電晶體)無法再使用於1900MHz的頻率要求。其他砷化鎵的應用,主要在於高頻微波通訊市場,包括於低雜訊功率放大器(LNA)、高頻功率放大器、微波積體電路(MMIC)、個人通信系統(PCS)、行動電話系統(Cellular
Phone)、光纖通信積體電路(OEIC)等等。
Electronic Trend
Publication報告預估全球微波元件市場將以25%的複合成長率快速成長,到2004年市場規模將達51.8億美元,較2000年成長2.4倍,預估砷化鎵元件今年市場佔有率可達62%,較93年的17%成長2.6倍。若由手機RF市場來看,Allied
Business
Intelligence估計1999年市場規模為17億美元,到2004年時會成長到50億美元,而1999年砷化鎵晶片市佔率為53%,其中一半為HBT,且未來五年砷化鎵將以32%的速度快速成長,2004年市佔率將超過7成。
圖一、全球微波元件市場預估 單位:百萬美元
圖2-1、手機各系統比重比較圖(1999年4.75億美元)

圖2-2、手機各系統比重比較圖(2004年9.22億美元)

二、台灣的砷化鎵產業
1.砷化鎵的過去-禁錮的寶藏
其實GaAs並非新科技,早在冷戰時期,砷化鎵所生產的晶片就大量運用在衛星通訊、軍事武器等國防工業上,但畢竟應用範圍狹隘、產業封閉,市場侷限,隨著冷戰結束,大量的國防科技釋出民間,找尋商業化的應用,甚至隨著無線通訊應用的普及、行動電話的高度成長,讓以GaAs
HBT生產的行動電話用功率放大器(PA)一度缺貨嚴重,部份GaAs晶圓廠擴產不及。
過去由於主要技術掌握在美國軍方手上,台灣雖然希望研發二六族化合物半導體技術,應用在天弓飛彈上,但因美國的技術管制而成效不彰。不過在1990年漢威光電成立,研發二六價技術,但因為冷戰結束,美國開放相關技術,使漢威光電轉投入三五族化合物半導體。
台灣的砷化鎵產業已經初具雛形,當時相關研發人員成為現今台灣砷化鎵產業的主力部隊,產業鏈也逐漸明朗,只要台灣手機產業順利成形,砷化鎵產業也有機會如台灣的晶圓代工一般,在國際佔有一席之地。
GaAs產業結構與矽產業近似,也是從最上游的磊晶長成、晶圓設計,中游的磊晶生產製造、到下游的封裝、測試及系統組裝(就是行動電話組裝),不過由於矽產業發展數十年,已逐漸從早期的垂直整合:即英特爾、IBM等IDM大廠把持IC設計、生產、系統組裝、行銷,發展到幾近高度競爭的水平專業分工的境界:即IC設計由fabless掌理、晶圓專工專司IC生產、也有專業的封裝測試廠,但在GaAs產業,由於剛從國防等工業「解禁」不久,專業水平分工並不明顯,IDM大廠仍在此扮演重要角色。
2.砷化鎵的現在-狂熱的追逐
國內近年來有許多公司看好砷化鎵前景,積極投入砷化鎵產業,如生產磊晶片的業者博達科技、全新光電、勝陽科技。還有IC設計的和茂、聯邦國際、和康等。生產代工的漢威、宏捷、穩茂等。封裝的菱生、同欣、華泰等。測試的宇通、全球、宏測等,整個砷化鎵產業已經隱然成型。
三、未來的明星
1.進入的門檻-人才、經驗、客戶
(1)人才:關鍵技術的突破
首先需面對的門檻是產品技術的突破,依目前各廠過去生產學習曲線觀察,從投入產品研發到產品樣品出爐,需耗時至少1?2年,之後還需經客戶的產品認證,一般認證期間約半年至2年不等。除此之外,致力於良率的提升,也要花費不少時間,因此,總計投入到開始量產出貨,期間約需至少1年半以上,先投入量產的廠商,先天上就佔有優勢地位。
(2)經驗:人才與設備的搭配
砷化鎵生產不比電腦組裝,其生產技術相當高,所有廠商都必須經歷一段很長的學習階段,才有辦法掌握生產技術,提升產品生產良率,人才養成是一個相當關鍵因素。砷化鎵屬於技術密
集產業,而台灣在這方面的人才又少,所以如何掌握並培養人才,對任何廠商都是相當重要的課題,而這也構成一相當高的進入障礙。
此外,整體設備的搭配也相當重要。因為即使有良好的生產技術,但生產設備基礎建設若不完整,也會拉長生產時間。尤其砷化鎵的應用領域仍有很大的開發空間,因此優良的生產及研發技術,再搭配完整的生產設備基礎建設,才有辦法縮短產品由試產到量產的時程,這也是目前已量產廠商的競爭利基。
(3)客戶:市場定位的明確
相較矽產業蓬勃發展數十年的「開放」,GaAs仍屬較「封閉」的產業結構,多數的產業力量仍集中在IDM廠,
GaAs產業從產品設計到晶圓製程多數仍掌握在Conexant、RF
MD、Motorola、Anadigic等IDM大廠手上,因此砷化鎵上游往往需要得到大廠認證,發展空間才會大。
隨著無線通訊產業的高成長,多數IDM大廠可能產能擴充不及,一方面除了自身擴廠以為因應外,尋求outsource也是另一法則,以Conexant為例,因為自身產能擴充不及,故積極扶植位在台灣南科的宏捷,宏捷在自己技術領先及Conexant協助下,已成為台灣首先量產的GaAs
foundry。
2.激烈的戰場-擴廠、擴廠、擴廠
(1)供給:
目前全世界各廠可量產的GaAs機台約有五十部,一部機器一年的最佳產能約一萬片,也就是全球一年約有五十萬片產能,一片磊晶片晶圓可以裁切成1,000顆晶片使用,以良率100%最樂觀估算,一年全球可以產出5億顆磊晶片。
(2)需求:
光以手機的使用來看,一支手機使用1?4顆磊晶片,而2000年手機市場保守預計有3.2億支,加上其他諸如汽車防撞、衛星定位、光纖等等產品用途,即使全球各廠均以全力量產,也無法供應這3億多支行動電話,顯示目前GaAs處於供不應求情況,且矽與砷化鎵磊晶片價差達3至5倍,故手機目前還有60%使用傳統的矽晶片。未來手機市場每年還會繼續成長,因此各廠未來將持續地進行擴廠計畫,今明兩年擴廠幅度都在倍數以上(見表七)。
3.未來的希望-手機、通訊、光纖
砷化鎵的應用除行動電話外,其適用於高頻傳輸的特性,在無線區域網路、無線本地迴路(Wireless Local
Loop)、光纖通訊、衛星通訊、衛星定位、LMDS、汽車導航汽車防撞等應用上,都有GaAs伸展的空間。
- 行動電話的確是現階段GaAs IC最大的成長動力,根據Compound Semiconductor及Strategies
Unlimited等兩家顧問公司的統計,GaAs IC 99年的市場規模約為20億美元,其中約有60%左右的產值是應用在手機RF∕IF晶片上,而GaAs
IC的產值在2001年?2003年將成長到30?40億美元左右,CAGR則高達34%。
- 隨著光纖到家(fiber to the home)的潮流,讓光纖產品除在骨幹網路部份有所施展外,更擴及到最後一英哩(last
mile)部份,未來全新將研發VCSEL,具備與光纖耦合性佳的優點,更多光纖通訊的應用正逐步成熟。
- 另外在汽車防撞雷達方面,根據Compound Semi的估計,其市場將由99年的2億美元成長至2003年的50億美元,CAGR更高達79%左右。
- 但除了行動電話之外,GaAs
IC正隨著國防技術不斷釋出、商業化,尚有一大塊處女地等待積極開發,例如有部份高級車市場正把原本用在夜視作戰的系統移作商業車用,而這些IC也是用GaAs生產,再者用GaAs生產高亮度的LED也可用在高級車的煞車燈上,這些都是GaAs正待耕耘之地。
表四、HBT競爭產品比較表
產品
項目 |
HBT |
PHEMT |
MESFET |
Si Ge |
Si BJT |
操作頻率 |
>100 GHz |
>100 GHz |
~25 GHz |
60~75 GHz |
<45 GHz |
線寬 |
2-3 m m |
0.12-0.5m m |
0.25-1 m m |
0.2-0.5 m m |
0.25-0.5m m |
功率 |
高 |
高 |
低 |
低 |
低 |
功率效益 |
最高 |
高 |
低 |
高 |
高 |
電源 |
單電源 |
雙電源 |
雙電源 |
單電源 |
單電源 |
製程技術 |
MMIC |
MMIC |
MMIC |
IC |
IC |
Die Area Cost |
0.11US$/mm2 |
0.21 US$/mm2 |
0.25US$/mm2 |
---- |
---- |
Idle Current |
低 |
高 |
高 |
低 |
低 |
崩潰電壓 |
最高 |
高 |
高 |
低 |
高 |
Gain |
高 |
高 |
低 |
高 |
高 |
產品應用 |
1.個人通信系統(PCS) 2.行動電話系統(Cellular
Phone) 3.微波積體電路(MMIC) 4.光纖通信積體電路(OEIC) |
1.低雜訊功率放大器(LNA) 2.高頻功率放大器 3.微波積體電路(MMIC) |
1.微波積體電路 |
1.微波積體電路 2.個人通信系統
|
1.一般積體電路
|
表五、砷化鎵(GaAs)V.S.矽(Silicon)產業上下游價值鏈比較
產業上下游 |
砷化鎵產業的廠商 |
矽產業的廠商 |
異同點 |
長磊晶晶圓 |
台灣:博達、全新、勝陽、華森磊晶、國聯、元砷、聯銓等,國外:kopin(美)、IQE(美、英)、Hitachi
Cable(日)、Pickgiga(法)、Furukawa(日)、Sumitomo(日)、MBE(新)等 |
台灣:中德、台灣小松、台灣信越等國外:小松、三菱、Sumitomo、日鐵電子、信越、Wacker等 |
1.矽標準化高 2.砷化鎵依客戶所給結構不同而不同 |
IDM(整合元件製作廠) |
設計(design house) |
台灣:漢威、全訊等國外:Conexant(科勝訊)、Motorola、RF
MD、Alpha、TriQuint、Anadigio、TRW、Philips等, |
台灣:和康、聯邦國際、大絃、和茂、聿勤等 |
台灣:威盛、揚智、矽統、瑞昱、偉詮、凌陽、民生、鈺創等國外:Broadcom、Qualcomm、S3、Adaptec、Trident、QAK |
1.砷化鎵產業較封閉,掌握在IDM大廠手中 2.矽應用面較廣 |
|
代工生產(Foundry) |
台灣:宏捷、穩茂、GCT、全訊、大統合、華京、博達加明?等,國外:NDI、GCI |
台灣:台積電、聯電 國外:特許 |
矽產業已經高度分工,砷化鎵產業設計廠商仍不足 |
|
封裝(package) |
台灣:菱生、麥瑟、同欣、國? |
台灣:華泰、矽品、日月光等國外:Amkor、ChipPca |
矽產業已經高度分工,砷化鎵封裝測試才由IDM廠釋出 |
|
測試(testing) |
台灣:宇通、日月光、宏測 |
台灣:福雷、南茂、矽豐、聯測等國外:Amkor等 |
下游系統組裝 |
|
以手機為例 台灣:明?、大霸、致福、廣達、大眾等,國外:Motorola、Ericsson、Nokia、Samsung等 |
以PC為例 台灣:宏?、廣達、華宇、仁寶等國外:東芝、IBM、康柏等 |
行動電話發展較PC更為快速 |
表六、台灣投入砷化鎵磊晶片廠商近況
廠商 |
資本額 |
機台數及產能 |
經營(投資)團隊 |
技術團隊背景 |
博達 |
16.5億 |
5條MBE(2000年底增至7條),月產能800片磊品,2條MOCVD(年底擴增至8條),月產能則為1000多片 |
董事長葉素菲持股18.87% |
彭進坤(光電事業部總經理):曾任職中科院 |
全新 |
7億 |
一廠現有5條4吋MOCVD生產線,年底前二廠總生產線可達14條 |
法人股東英誌16%,和光光學12%及華陽中小開發約5%,其他包括錸德 |
林昆泉(總經理):交大電研所博士,楊懷東(技術總監):曾任職休斯公司 |
勝陽 |
5億 |
2台4吋MOCVD,2001年9台,2002年14台,2003年19台 |
|
|
元砷 |
8億
(總投資額為20億) |
6吋磊晶月產能1000片 |
30.5%為台南紡織集團,統一國際開發及南帝化工各佔12.5%,九福佔3.75%,餘為技術股 |
管鴻:台南科技大學教授 |
華森磊晶 |
10億 |
2000年Q4共設置完成7至8台機器設備,兼具MBE及MOCVD技術 |
華宇集團持股約佔50% |
英、美技術團隊結盟 |
國聯光電 |
24.6億 |
6吋砷化鎵磊晶片,目前擁有2條6吋MOCVD生產線,2000年Q3再引進5台 |
|
|
聯詮 |
6.5億 |
InGap為基礎的MOCVD製程生產HBT |
聯電40%、台灣工業銀行20%,其餘為創投10%和技術股 |
|
巨鎵 |
4-5億 |
6吋砷化鎵磊晶 |
日立電纜(Hitachi Cable)、巨晶科技 |
日立電纜技術轉移,巨晶則為材料代理商 |
表七、目前全球主要生產廠一覽表
公司 |
國家 |
技術 |
目前月產能(片) |
預計擴產進度 |
Kopin |
美國 |
MOCVD |
7,000 |
9,200 |
IQE |
美國/英國 |
MBE、MOCVD |
MBE: 5,000;MOCVD:7,000 |
23,000 |
Hitachi Cable |
日本 |
MOCVD |
8,000 |
10,000 |
Picogiga |
法國 |
MBE |
3,600 |
4,200 |
Furukawa |
日本 |
MOCVD |
3,600 |
--- |
博達 |
台灣 |
MBE、MOCVD |
MBE: 3,100;MOCVD:2,200 |
16,200 |
全新 |
台灣 |
MOCVD |
1,000 |
18,000 |
表八、砷化鎵IC應用市場、使用元件及1999—2003年複合成長率
應用市場 |
使用頻率 |
使用元件技術 |
1999—2003 複合成長率 |
衛星電視 |
11—13GHz |
PHEMT、MESEFT |
約55% |
衛星電話 |
1.6,2.5GHz、20,23,29GHz |
|
|
光纖節點 (Fiber Optic Nodes) |
DC to >2.5GHz、DC to >10GHz |
PHEMT、MESEFT |
約20% |
Cellular/PCS
Wireless local loop |
900NHz(Cellular)、1.8—2.2GHz(PCS)、2.2—2.4Hz(3G
wireless) |
PHEMT、MESEFT
HBT |
約40% |
Point-to-Point Radio |
6,8,11,15,18,23,38. 60GHz |
MESEFT、 PHEMT, HFET |
|
GPS |
900MHz,2.4, 5.8,60GHz |
MESEFT、 PHEMT, |
約20% |
無線區域網路 |
1.6GHz |
PHEMT、MESEFT、HBT |
約35% |
Very Small Aperture Terminal(VSAT) |
6,14,28GHz |
MESEFT、PHEMT |
|
有線電視 |
50—1000GHz |
MESEFT、PHEMT |
|
Broadband Satellite Service |
28 GHz |
PHEMT |
約30% |
LMDS、MMDS |
28,31GHz、42GHz |
PHEMT |
|
Automotive Radar-Smart Cruise Control |
76—77GHz |
PHEMT |
|
Electronic Toll Collection System |
5.8GHz |
MESEFT, PHEMT |
|